プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9393 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→50 Å / Num. obs: 24331 / % possible obs: 98.8 % / 冗長度: 2.4 % / Rmerge(I) obs: 0.073 / Net I/σ(I): 16
反射 シェル
解像度: 2.3→2.5 Å / 冗長度: 2.1 % / Rmerge(I) obs: 0.709 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / % possible all: 96.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXDE
位相決定
SHARP
位相決定
REFMAC
5.8.0049
精密化
PDB_EXTRACT
3.14
データ抽出
SHARP
位相決定
XSCALE
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.3→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.952 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.94 / SU B: 34.58 / SU ML: 0.341 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.41 / ESU R Free: 0.266 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.275
1245
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.242
23086
-
-
obs
0.2437
24331
98.76 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK