タイプ: MARMOSAIC 225 mm CCD / 検出器: CCD / 日付: 2010年11月28日 詳細: TOROIDAL MIRROR (M2) TO VERTICALLY AND HORIZONTALLY FOCUS THE BEAM AT THE SAMPLE POSITION DEMAGNIFICATION)
放射
モノクロメーター: BARTELS MONOCROMATOR / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.4→55.87 Å / Num. obs: 43358 / % possible obs: 96.4 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 7.7 % / Rsym value: 0.085 / Net I/σ(I): 14.3
反射 シェル
解像度: 1.4→1.48 Å / 冗長度: 7.6 % / Rmerge(I) obs: 0.776 / Mean I/σ(I) obs: 1 / Rsym value: 0.776 / % possible all: 94.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
REFMAC
5.6.0117
精密化
SHELXD
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.4→21.35 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.943 / SU B: 1.189 / SU ML: 0.048 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.069 / ESU R Free: 0.074 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.223
2174
5 %
RANDOM
Rwork
0.183
-
-
-
obs
0.185
41163
96.1 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK