プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.3 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.29→50 Å / Num. obs: 67598 / % possible obs: 94.2 % / 冗長度: 7.9 % / Rmerge(I) obs: 0.088 / Net I/σ(I): 13.9
反射 シェル
解像度: 1.29→1.36 Å / 冗長度: 2.4 % / Rmerge(I) obs: 0.509 / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / % possible all: 63.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.29→51.4 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.977 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.975 / SU B: 0.781 / SU ML: 0.015 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.032 / ESU R Free: 0.031 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.14044
3418
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.12365
-
-
-
obs
0.1245
64129
94.04 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK