温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 8.5 詳細: 16% PEG 4000, 0.08M Magnesium chloride hexahydrate, 0.1M Tris hydrochloride, pH 8.5, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 298K
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: SSRF / ビームライン: BL17U / 波長: 1 Å
検出器
検出器: CCD
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 13.3 % / 数: 122549 / Rmerge(I) obs: 0.143 / Χ2: 1 / D res high: 2.25 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 9244 / % possible obs: 98.4
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
4.85
50
99.7
1
0.084
0.999
13.3
3.85
4.85
94.5
1
0.096
0.998
12.9
3.36
3.85
96.8
1
0.16
0.995
11.5
3.05
3.36
100
1
0.112
0.997
14.4
2.83
3.05
100
1
0.141
0.992
14.5
2.67
2.83
100
1
0.201
0.993
14.5
2.53
2.67
100
1
0.313
1.007
14.3
2.42
2.53
100
1
0.286
1.007
14
2.33
2.42
99.8
1
0.337
0.992
12.7
2.25
2.33
93.6
1
0.503
1.005
10.4
反射
解像度: 1.8→50 Å / Num. obs: 17809 / % possible obs: 96.4 % / 冗長度: 12.3 % / Rmerge(I) obs: 0.104 / Χ2: 1.004 / Net I/σ(I): 18.6
反射 シェル
Diffraction-ID: 1 / Rejects: _
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
% possible all
1.8-1.86
14.4
0.287
1815
1
99.9
1.86-1.94
8
0.406
1584
1.005
87.7
1.94-2.03
13.2
0.239
1811
1.003
99.9
2.03-2.13
11.3
0.191
1832
1.005
100
2.13-2.27
11.7
0.145
1660
1.008
91
2.27-2.44
13.6
0.124
1837
1.005
99.6
2.44-2.69
13.4
0.118
1845
1.006
99.9
2.69-3.08
13.9
0.11
1845
1.007
99.9
3.08-3.88
10.3
0.087
1707
0.997
91
3.88-50
12.6
0.071
1873
1
94.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
REFMAC
5.7.0032
精密化
PDB_EXTRACT
3.14
データ抽出
HKL-2000
データ収集
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.8→19.35 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.956 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.938 / SU B: 4.847 / SU ML: 0.079 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.119 / ESU R Free: 0.115 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES: RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2163
908
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1828
-
-
-
obs
0.1845
17659
96.1 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK