モノクロメーター: SAGITALLY FOCUSED Si(111) / プロトコル: SAD / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97929 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 9.7 % / Av σ(I) over netI: 33.01 / 数: 101644 / Rmerge(I) obs: 0.068 / Χ2: 1.23 / D res high: 1.9 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 10484 / % possible obs: 98.5
D res high: 2 Å / D res low: 44.75 Å / FOM : 0.172 / FOM acentric: 0.248 / FOM centric: 0 / 反射: 9000 / Reflection acentric: 6258 / Reflection centric: 2742
Phasing MAD set
R cullis acentric: 2.07 / R cullis centric: 1 / 最高解像度: 2 Å / 最低解像度: 44.75 Å / Loc acentric: 0 / Loc centric: 0 / Power acentric: 0 / Power centric: 0 / Reflection acentric: 6258 / Reflection centric: 2742
Phasing MAD set shell
ID: 1 / R cullis centric: 1 / Power acentric: 0 / Power centric: 0
解像度 (Å)
R cullis acentric
Loc acentric
Loc centric
Reflection acentric
Reflection centric
12.19-44.75
3.95
0.3
0.1
6
53
7.05-12.19
2.23
0.1
0.1
74
134
4.96-7.05
2.46
0.1
0
213
217
3.83-4.96
1.3
0.1
0.1
432
308
3.12-3.83
1.49
0.1
0
746
391
2.63-3.12
2.68
0.1
0
1113
470
2.27-2.63
2.78
0
0
1558
548
2-2.27
2.38
0
0
2116
621
Phasing MAD set site
Atom type symbol: Se / B iso: 53.9197 / Fract x: 0.914 / Fract y: 0.714 / Fract z: 0.017 / Occupancy: 4.23 / Occupancy iso: 0
Phasing MAD shell
解像度 (Å)
FOM
FOM acentric
FOM centric
反射
Reflection acentric
Reflection centric
12.19-44.75
0.041
0.406
0
59
6
53
7.05-12.19
0.165
0.463
0
208
74
134
4.96-7.05
0.261
0.527
0
430
213
217
3.83-4.96
0.25
0.428
0
740
432
308
3.12-3.83
0.275
0.418
0
1137
746
391
2.63-3.12
0.25
0.355
0
1583
1113
470
2.27-2.63
0.156
0.211
0
2106
1558
548
2-2.27
0.065
0.084
0
2737
2116
621
Phasing dm
手法: Solvent flattening and Histogram matching / 反射: 10313
Phasing dm shell
解像度 (Å)
Delta phi final
FOM
反射
5.58-100
73.9
0.488
506
4.35-5.58
70.6
0.807
506
3.76-4.35
69.5
0.829
506
3.39-3.76
70.4
0.825
503
3.14-3.39
72
0.803
502
2.94-3.14
69.8
0.777
507
2.78-2.94
70.5
0.767
505
2.65-2.78
72.2
0.751
509
2.54-2.65
76.3
0.735
501
2.45-2.54
81.3
0.745
506
2.37-2.45
79.2
0.685
511
2.3-2.37
81.2
0.719
502
2.23-2.3
84.9
0.747
507
2.18-2.23
80.8
0.754
512
2.12-2.18
91.6
0.777
522
2.08-2.12
82.5
0.698
506
2.03-2.08
85.2
0.71
515
1.99-2.03
87.2
0.684
501
1.95-1.99
91.5
0.633
507
1.9-1.95
88.7
0.565
679
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
MLPHARE
位相決定
直接法
6.1
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
SBC-Collect
データ収集
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
SHELXD
位相決定
SHELXE
モデル構築
SOLVE
位相決定
RESOLVE
位相決定
ARP/wARP
モデル構築
CCP4
位相決定
O
モデル構築
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.9→32.59 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.959 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / WRfactor Rfree: 0.2317 / WRfactor Rwork: 0.1832 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.8678 / SU B: 7.7 / SU ML: 0.107 / SU R Cruickshank DPI: 0.1613 / SU Rfree: 0.1483 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.161 / ESU R Free: 0.148 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2314
492
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.1893
-
-
-
all
0.1913
10243
-
-
obs
0.1913
10243
97.99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK