モノクロメーター: SAGITALLY FOCUSED Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97929 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 10.3 % / Av σ(I) over netI: 42.8 / 数: 428255 / Rmerge(I) obs: 0.081 / Χ2: 1.9 / D res high: 1.6 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 41416 / % possible obs: 99.8
D res high: 2 Å / D res low: 50 Å / FOM : 0.394 / FOM acentric: 0.449 / FOM centric: 0 / 反射: 21410 / Reflection acentric: 18776 / Reflection centric: 2634
Phasing MAD set
R cullis acentric: 1.5 / R cullis centric: 1 / 最高解像度: 2 Å / 最低解像度: 50 Å / Loc acentric: 0.2 / Loc centric: 0.2 / Power acentric: 0 / Power centric: 0 / Reflection acentric: 18776 / Reflection centric: 2634
Phasing MAD set shell
ID: 1 / R cullis centric: 1 / Power acentric: 0 / Power centric: 0
解像度 (Å)
R cullis acentric
Loc acentric
Loc centric
Reflection acentric
Reflection centric
12.5-50
1.6
0.5
0.2
46
39
7.14-12.5
1.34
0.5
0.3
258
108
5-7.14
1.66
0.5
0.3
737
202
3.85-5
1.07
0.4
0.3
1392
284
3.13-3.85
1.16
0.3
0.2
2261
381
2.63-3.13
1.63
0.2
0.1
3340
459
2.27-2.63
1.93
0.2
0.1
4629
541
2-2.27
2.01
0.1
0
6113
620
Phasing MAD set site
Atom type symbol: Se / Occupancy iso: 0
ID
B iso
Fract x
Fract y
Fract z
Occupancy
1
21.3379
0.128
0.128
0.162
4.947
2
23.2886
-0.186
-0.012
0.284
4.985
3
23.8171
-0.067
0.141
0.273
4.825
4
25.1166
-0.11
0.013
0.217
4.255
5
30.0717
-0.464
0.171
0.337
3.893
6
27.5195
-0.304
0.183
0.348
3.864
7
40.5864
0.16
0.216
0.222
3.53
8
49.7612
-0.183
-0.11
0.24
3.589
9
54.0889
0.021
-0.011
0.34
2.89
10
34.15
0.06
-0.013
0.329
1.361
Phasing MAD shell
解像度 (Å)
FOM
FOM acentric
FOM centric
反射
Reflection acentric
Reflection centric
12.5-50
0.259
0.479
0
85
46
39
7.14-12.5
0.327
0.464
0
366
258
108
5-7.14
0.421
0.537
0
939
737
202
3.85-5
0.441
0.531
0
1676
1392
284
3.13-3.85
0.436
0.509
0
2642
2261
381
2.63-3.13
0.429
0.488
0
3799
3340
459
2.27-2.63
0.41
0.458
0
5170
4629
541
2-2.27
0.334
0.368
0
6733
6113
620
Phasing dm
手法: Solvent flattening and Histogram matching / 反射: 45428
Phasing dm shell
解像度 (Å)
Delta phi final
FOM
反射
6.86-100
77.5
0.372
517
5.31-6.86
66
0.842
639
4.49-5.31
59.9
0.886
778
3.96-4.49
58.7
0.895
886
3.58-3.96
61
0.887
982
3.3-3.58
59.8
0.883
1082
3.07-3.3
61
0.875
1146
2.88-3.07
63.1
0.856
1226
2.73-2.88
62.3
0.854
1291
2.59-2.73
63.7
0.861
1383
2.48-2.59
61.6
0.854
1433
2.38-2.48
62.1
0.845
1508
2.29-2.38
63.6
0.831
1524
2.21-2.29
62.2
0.85
1607
2.13-2.21
64.3
0.819
1664
2.07-2.13
63.6
0.808
1711
2.01-2.07
64.4
0.806
1756
1.95-2.01
84.9
0.802
1790
1.9-1.95
90.8
0.771
1871
1.86-1.9
91.1
0.789
1909
1.81-1.86
88.3
0.777
1930
1.77-1.81
88.1
0.745
2015
1.73-1.77
94.3
0.729
2024
1.7-1.73
90.8
0.751
2079
1.66-1.7
90.2
0.688
2119
1.63-1.66
89
0.697
2138
1.6-1.63
91
0.615
2202
1.55-1.6
90.3
0.482
4218
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
MLPHARE
位相決定
直接法
6.1
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
SBC-Collect
データ収集
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
位相決定
SHELXD
位相決定
SHELXE
モデル構築
SOLVE
位相決定
RESOLVE
位相決定
ARP/wARP
モデル構築
CCP4
位相決定
O
モデル構築
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.6→36.55 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.971 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / WRfactor Rfree: 0.1966 / WRfactor Rwork: 0.161 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.4 / FOM work R set: 0.9204 / SU B: 2.744 / SU ML: 0.05 / SU R Cruickshank DPI: 0.0911 / SU Rfree: 0.0907 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.091 / ESU R Free: 0.091 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.192
2075
5 %
RANDOM
Rwork
0.1572
-
-
-
all
0.159
41229
-
-
obs
0.159
41229
99.32 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK