タイプ: MAR scanner 345 mm plate / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 2012年3月19日
放射
モノクロメーター: Ni FILTER / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9793 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→35.08 Å / Num. all: 28267 / Num. obs: 27777 / % possible obs: 98.3 %
反射 シェル
解像度: 2→2.11 Å / Rmerge(I) obs: 0.19 / Mean I/σ(I) obs: 4.8 / Rsym value: 0.226 / % possible all: 98.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.5.0102
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→35.08 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.925 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.884 / SU B: 10.318 / SU ML: 0.131 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.209 / ESU R Free: 0.184 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25651
1393
5 %
RANDOM
Rwork
0.20873
-
-
-
obs
0.21115
26384
98.27 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK