モノクロメーター: C(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97872 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 6.8 % / Av σ(I) over netI: 19.01 / 数: 115728 / Rmerge(I) obs: 0.081 / Χ2: 0.95 / D res high: 2.1 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 16920 / % possible obs: 99.1
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
5.7
50
98.1
1
0.06
1.037
6.2
4.52
5.7
100
1
0.058
0.999
6.9
3.95
4.52
100
1
0.066
1.088
7
3.59
3.95
100
1
0.08
1.01
7.1
3.33
3.59
100
1
0.093
1.079
7.2
3.14
3.33
100
1
0.1
0.962
7.2
2.98
3.14
100
1
0.099
0.941
7.3
2.85
2.98
100
1
0.096
0.94
7.3
2.74
2.85
100
1
0.103
0.908
7.3
2.65
2.74
100
1
0.116
0.934
7.3
2.56
2.65
100
1
0.122
0.976
7.3
2.49
2.56
100
1
0.134
0.981
7.3
2.42
2.49
100
1
0.141
0.931
7.2
2.37
2.42
100
1
0.166
0.92
7.1
2.31
2.37
100
1
0.186
0.93
7
2.26
2.31
99.1
1
0.216
0.884
6.7
2.22
2.26
99.4
1
0.234
0.849
6.3
2.18
2.22
97.8
1
0.253
0.915
6
2.14
2.18
94.5
1
0.269
0.89
5.7
2.1
2.14
93.4
1
0.319
0.817
5.4
反射
解像度: 2.1→29.85 Å / Num. obs: 16920 / % possible obs: 99.1 % / 冗長度: 6.8 % / Rsym value: 0.081 / Χ2: 0.954 / Net I/σ(I): 13.33
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Num. unique all
Rsym value
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
2.1-2.14
5.4
775
0.319
0.817
1
93.4
2.14-2.18
5.7
791
0.269
0.89
1
94.5
2.18-2.22
6
829
0.253
0.915
1
97.8
2.22-2.26
6.3
840
0.234
0.849
1
99.4
2.26-2.31
6.7
801
0.216
0.884
1
99.1
2.31-2.37
7
842
0.186
0.93
1
100
2.37-2.42
7.1
834
0.166
0.92
1
100
2.42-2.49
7.2
855
0.141
0.931
1
100
2.49-2.56
7.3
833
0.134
0.981
1
100
2.56-2.65
7.3
836
0.122
0.976
1
100
2.65-2.74
7.3
856
0.116
0.934
1
100
2.74-2.85
7.3
838
0.103
0.908
1
100
2.85-2.98
7.3
857
0.096
0.94
1
100
2.98-3.14
7.3
837
0.099
0.941
1
100
3.14-3.33
7.2
860
0.1
0.962
1
100
3.33-3.59
7.2
857
0.093
1.079
1
100
3.59-3.95
7.1
870
0.08
1.01
1
100
3.95-4.52
7
877
0.066
1.088
1
100
4.52-5.7
6.9
892
0.058
0.999
1
100
5.7-29.8
6.2
940
0.06
1.037
1
98.1
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
EMBL
MD-2
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→29.8 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.943 / WRfactor Rfree: 0.2487 / WRfactor Rwork: 0.2091 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.8545 / SU B: 4.071 / SU ML: 0.11 / SU R Cruickshank DPI: 0.1904 / SU Rfree: 0.1646 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.19 / ESU R Free: 0.165 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2264
836
5 %
RANDOM
Rwork
0.1924
-
-
-
obs
0.1941
16876
99.05 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK