プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.91973 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.72→1.81 Å / Num. obs: 54495 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 13.9 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 22.3
反射 シェル
解像度: 1.72→1.81 Å / 冗長度: 13.8 % / Rmerge(I) obs: 0.42 / Mean I/σ(I) obs: 6.7 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.72→102.91 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.964 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.96 / SU B: 1.031 / SU ML: 0.034 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.058 / ESU R Free: 0.059 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17572
2769
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.16176
-
-
-
obs
0.16247
51710
99.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK