プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.8726 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.4→58.5 Å / Num. obs: 74487 / % possible obs: 97.9 % / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.11 / Net I/σ(I): 11
反射 シェル
解像度: 2.4→2.5 Å / 冗長度: 4 % / Rmerge(I) obs: 0.65 / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / % possible all: 97.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.42→43.81 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.917 / SU B: 14.587 / SU ML: 0.176 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.34 / ESU R Free: 0.244 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23567
3729
5 %
RANDOM
Rwork
0.18301
-
-
-
obs
0.18565
70750
97.05 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK