プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.97→68.5 Å / Num. obs: 30411 / % possible obs: 99.4 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 17.6
反射 シェル
解像度: 1.97→2.01 Å / 冗長度: 3.4 % / Rmerge(I) obs: 0.45 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.97→68.52 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.946 / SU B: 5.76 / SU ML: 0.087 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.148 / ESU R Free: 0.134 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2028
1239
4.1 %
RANDOM
Rwork
0.1677
-
-
-
obs
0.16923
29172
98.47 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK