プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9762 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.82→40 Å / Num. obs: 37838 / % possible obs: 99.5 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 21.9
反射 シェル
解像度: 1.82→1.86 Å / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.38 / Mean I/σ(I) obs: 2.7 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: NONE 解像度: 1.82→67.73 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / SU B: 4.36 / SU ML: 0.07 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.117 / ESU R Free: 0.11 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19731
1517
4 %
RANDOM
Rwork
0.16834
-
-
-
obs
0.1695
36320
99.02 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK