Q585F3 IS THE NEAREST UNIPROT ENTRY TO MCA2 FROM T. BRUCEI STRAIN 427. T. BRUCEI 427 MCA2 IS NOT ...Q585F3 IS THE NEAREST UNIPROT ENTRY TO MCA2 FROM T. BRUCEI STRAIN 427. T. BRUCEI 427 MCA2 IS NOT YET AVAILABLE IN UNIPROT. UNIPROT Q585F3 DIFFERS FROM THIS ENTRY AT POSITIONS 106 (LYS/ARG) AND 315 (GLY/ARG).
モノクロメーター: SI (111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9763 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.4→40.7 Å / Num. obs: 56770 / % possible obs: 97.6 % / Observed criterion σ(I): 4 / 冗長度: 3.5 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 20.3
反射 シェル
解像度: 1.4→1.48 Å / 冗長度: 2.6 % / Rmerge(I) obs: 0.22 / Mean I/σ(I) obs: 4.4 / % possible all: 84.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
Auto-Rickshaw
位相決定
CNS
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: PARIALLY-REFINED SEMET DERIVATIVE 解像度: 1.4→76.03 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.966 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.078 / ESU R Free: 0.062 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY. RESIDUES 1-2, 166-170, AND 269-275 ARE DISORDERED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17767
2874
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.15257
-
-
-
obs
0.15389
53896
97.56 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK