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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 407d | |||||||||||||||||||||||
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タイトル | STRUCTURAL BASIS FOR RECOGNITION OF A-T AND T-A BASE PAIRS IN THE MINOR GROOVE OF B-DNA | |||||||||||||||||||||||
![]() | DNA (5'-D(*![]() DNA / DRUGS IN THE DNA MINOR GROOVE | 機能・相同性 | Chem-HP1 / DNA | ![]() 生物種 | synthetic construct (人工物) | 手法 | ![]() ![]() ![]() Rees, D.C. | ![]() ![]() タイトル: A structural basis for recognition of A.T and T.A base pairs in the minor groove of B-DNA. 著者: Kielkopf, C.L. / White, S. / Szewczyk, J.W. / Turner, J.M. / Baird, E.E. / Dervan, P.B. / Rees, D.C. 履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 26.7 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 17.9 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 467.2 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 485.9 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 3.8 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 5.2 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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Components on special symmetry positions |
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要素
#1: DNA鎖 | 分子量: 3045.004 Da / 分子数: 2 / 由来タイプ: 合成 / 由来: (合成) synthetic construct (人工物) #2: 化合物 | #3: 化合物 | ChemComp-TRS / | #4: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.68 Å3/Da / 溶媒含有率: 54.06 % | ||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 温度: 293 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 7.5 詳細: pH 7.50, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 293.00K | ||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 |
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結晶化 | *PLUS 手法: unknown | ||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 103 K |
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() ![]() |
検出器 | タイプ: MARRESEARCH / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 1997年12月15日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 2.2→17 Å / Num. all: 3070 / Num. obs: 3070 / % possible obs: 91.5 % / Observed criterion σ(F): 0 / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.2 % / Rmerge(I) obs: 0.03 |
反射 | *PLUS 最高解像度: 2.2 Å / 最低解像度: 17 Å / % possible obs: 91.5 % / Num. measured all: 9893 / Rmerge(I) obs: 0.03 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 解像度: 2.2→20 Å / σ(F): 0
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 2.2→20 Å
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拘束条件 |
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Xplor file | Serial no: 1 / Param file: NOC2ENDO.PARAM / Topol file: IPP_NODIH.PAR | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
ソフトウェア | *PLUS 名称: ![]() | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化 | *PLUS 最高解像度: 2.2 Å / 最低解像度: 20 Å / σ(F): 0 / % reflection Rfree: 4.8 % | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS |