プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.82 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1→50 Å / Num. all: 112436 / Num. obs: 107216 / % possible obs: 95.4 % / Rsym value: 0.047 / Net I/σ(I): 30.7
反射 シェル
解像度: 1→1.04 Å / Mean I/σ(I) obs: 3.61 / Rsym value: 0.296 / % possible all: 91.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
BSS
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1→27.91 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.978 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.971 / SU B: 0.755 / SU ML: 0.017 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.023 / ESU R Free: 0.025 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16308
5363
5 %
RANDOM
Rwork
0.13654
-
-
-
obs
0.13787
101796
95.14 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK