モノクロメーター: Si 111 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→20 Å / Num. obs: 40756 / % possible obs: 98.3 % / 冗長度: 9 % / Rmerge(I) obs: 0.068 / Net I/σ(I): 53.5
反射 シェル
解像度: 2→2.02 Å / 冗長度: 9.3 % / Rmerge(I) obs: 0.35 / Mean I/σ(I) obs: 8.3 / Num. unique all: 2654 / % possible all: 99.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
CRANK
位相決定
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2→19.8 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.925 / SU B: 7.806 / SU ML: 0.114 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.163 / ESU R Free: 0.153 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23593
2074
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19526
-
-
-
obs
0.19736
38656
98.29 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK