- PDB-3vw4: Crystal structure of the DNA-binding domain of ColE2-P9 Rep in co... -
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基本情報
登録情報
データベース: PDB / ID: 3vw4
タイトル
Crystal structure of the DNA-binding domain of ColE2-P9 Rep in complex with the replication origin
要素
DNA (5'-D(P*AP*AP*TP*GP*AP*GP*AP*CP*CP*AP*GP*AP*TP*AP*AP*GP*CP*CP*TP*TP*AP*TP*C)-3')
DNA (5'-D(P*GP*AP*TP*AP*AP*GP*GP*CP*TP*TP*AP*TP*CP*TP*GP*GP*TP*CP*TP*CP*AP*TP*T)-3')
Rep
キーワード
DNA BINDING PROTEIN/DNA / helix-turn-helix / specific DNA-binding and unwinding of DNA duplex / cytosol / replication initiator protein / DNA BINDING PROTEIN-DNA complex
機能・相同性
機能・相同性情報
regulation of DNA-templated transcription 類似検索 - 分子機能
#241 - 2020年1月 20年の分子を振り返って (Twenty Years of Molecules) 類似性 (1)
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集合体
登録構造単位
A: Rep B: Rep C: DNA (5'-D(P*AP*AP*TP*GP*AP*GP*AP*CP*CP*AP*GP*AP*TP*AP*AP*GP*CP*CP*TP*TP*AP*TP*C)-3') D: DNA (5'-D(P*GP*AP*TP*AP*AP*GP*GP*CP*TP*TP*AP*TP*CP*TP*GP*GP*TP*CP*TP*CP*AP*TP*T)-3') E: DNA (5'-D(P*AP*AP*TP*GP*AP*GP*AP*CP*CP*AP*GP*AP*TP*AP*AP*GP*CP*CP*TP*TP*AP*TP*C)-3') F: DNA (5'-D(P*GP*AP*TP*AP*AP*GP*GP*CP*TP*TP*AP*TP*CP*TP*GP*GP*TP*CP*TP*CP*AP*TP*T)-3') ヘテロ分子
A: Rep C: DNA (5'-D(P*AP*AP*TP*GP*AP*GP*AP*CP*CP*AP*GP*AP*TP*AP*AP*GP*CP*CP*TP*TP*AP*TP*C)-3') D: DNA (5'-D(P*GP*AP*TP*AP*AP*GP*GP*CP*TP*TP*AP*TP*CP*TP*GP*GP*TP*CP*TP*CP*AP*TP*T)-3') ヘテロ分子
B: Rep E: DNA (5'-D(P*AP*AP*TP*GP*AP*GP*AP*CP*CP*AP*GP*AP*TP*AP*AP*GP*CP*CP*TP*TP*AP*TP*C)-3') F: DNA (5'-D(P*GP*AP*TP*AP*AP*GP*GP*CP*TP*TP*AP*TP*CP*TP*GP*GP*TP*CP*TP*CP*AP*TP*T)-3') ヘテロ分子
解像度: 2.7→2.75 Å / 冗長度: 6.5 % / Mean I/σ(I) obs: 5.1 / % possible all: 100
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
ADSC
Quantum
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.7→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.911 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.871 / SU B: 11.645 / SU ML: 0.191 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.44 / ESU R Free: 0.298 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26233
1168
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.22014
-
-
-
all
0.26
23141
-
-
obs
0.22232
21787
99.23 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK