プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 4.4 % / Av σ(I) over netI: 8.4 / 数: 106701 / Rsym value: 0.068 / D res high: 1.36 Å / D res low: 28.452 Å / Num. obs: 24181 / % possible obs: 99.9
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Rsym value
Redundancy
4.3
28.45
98.8
1
0.021
0.021
4.2
3.04
4.3
100
1
0.025
0.025
4.6
2.48
3.04
99.7
1
0.063
0.063
4
2.15
2.48
100
1
0.065
0.065
4.3
1.92
2.15
99.9
1
0.068
0.068
4.4
1.76
1.92
99.9
1
0.114
0.114
4.4
1.63
1.76
100
1
0.193
0.193
4.5
1.52
1.63
99.9
1
0.298
0.298
4.5
1.43
1.52
100
1
0.465
0.465
4.5
1.36
1.43
99.9
1
0.73
0.73
4.5
反射
解像度: 1.36→28.452 Å / Num. all: 24205 / Num. obs: 24181 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 4.4 % / Biso Wilson estimate: 13 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.068 / Rsym value: 0.068 / Net I/σ(I): 11.4
反射 シェル
Diffraction-ID: 1
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Mean I/σ(I) obs
Num. measured all
Num. unique all
Rsym value
% possible all
1.36-1.43
4.5
0.73
1.1
15374
3446
0.73
99.9
1.43-1.52
4.5
0.465
1.7
14789
3292
0.465
100
1.52-1.63
4.5
0.298
2.6
13883
3093
0.298
99.9
1.63-1.76
4.5
0.193
3.9
13061
2907
0.193
100
1.76-1.92
4.4
0.114
6.6
11826
2666
0.114
99.9
1.92-2.15
4.4
0.068
10.4
10708
2423
0.068
99.9
2.15-2.48
4.3
0.065
9.7
9377
2174
0.065
100
2.48-3.04
4
0.063
9.7
7390
1846
0.063
99.7
3.04-4.3
4.6
0.025
22.4
6707
1472
0.025
100
4.3-28.452
4.2
0.021
23.7
3586
862
0.021
98.8
-
位相決定
位相決定
手法: 分子置換
Phasing MR
Rfactor: 50.94 / Model details: Phaser MODE: MR_AUTO
解像度: 1.36→28.45 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.978 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.964 / WRfactor Rfree: 0.182 / WRfactor Rwork: 0.1269 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.4 / FOM work R set: 0.9046 / SU B: 1.955 / SU ML: 0.035 / SU R Cruickshank DPI: 0.0568 / SU Rfree: 0.0588 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R Free: 0.059 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1865
1233
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1314
-
-
-
all
0.1342
24200
-
-
obs
0.1342
24149
99.79 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK