冗長度: 7.3 % / Av σ(I) over netI: 31.11 / 数: 520220 / Rmerge(I) obs: 0.045 / Χ2: 1.72 / D res high: 1.76 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 70958 / % possible obs: 99.9
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
4.78
50
98.4
1
0.027
2.033
6.8
3.79
4.78
100
1
0.028
1.965
7.2
3.31
3.79
100
1
0.032
2.075
7.3
3.01
3.31
100
1
0.04
2.34
7.3
2.79
3.01
100
1
0.044
2.166
7.4
2.63
2.79
100
1
0.047
1.884
7.4
2.5
2.63
100
1
0.052
1.825
7.4
2.39
2.5
100
1
0.059
1.826
7.5
2.3
2.39
100
1
0.067
1.88
7.4
2.22
2.3
100
1
0.077
1.811
7.4
2.15
2.22
100
1
0.081
1.636
7.4
2.09
2.15
100
1
0.094
1.566
7.4
2.03
2.09
100
1
0.106
1.494
7.4
1.98
2.03
100
1
0.125
1.485
7.4
1.94
1.98
100
1
0.161
1.471
7.4
1.9
1.94
100
1
0.184
1.441
7.4
1.86
1.9
100
1
0.215
1.394
7.4
1.82
1.86
100
1
0.268
1.377
7.4
1.79
1.82
100
1
0.317
1.363
7.2
1.76
1.79
99.8
1
0.35
1.351
6.8
反射
解像度: 1.6→50 Å / Num. obs: 89654 / % possible obs: 94.5 % / 冗長度: 6.8 % / Rmerge(I) obs: 0.058 / Χ2: 1.06 / Net I/σ(I): 9.9
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
1.6-1.65
3.7
0.664
5307
0.94
1,2
68.3
1.65-1.7
4.7
0.576
6124
0.964
1,2
78.7
1.7-1.76
5.5
0.503
6963
0.974
1,2
88.6
1.76-1.83
6.3
0.423
7641
1.004
1,2
98
1.83-1.91
7.1
0.329
7827
1.054
1,2
99.9
1.91-2.02
7.5
0.233
7881
1.094
1,2
100
2.02-2.14
7.5
0.153
7863
1.104
1,2
100
2.14-2.31
7.5
0.109
7875
1.1
1,2
100
2.31-2.54
7.5
0.082
7916
1.103
1,2
100
2.54-2.91
7.5
0.056
7923
1.016
1,2
100
2.91-3.66
7.5
0.033
8021
1.063
1,2
100
3.66-50
7.2
0.023
8313
1.12
1,2
99.7
-
位相決定
位相決定
手法: 多波長異常分散
Phasing dm
手法: Solvent flattening and Histogram matching / 反射: 72721
Phasing dm shell
解像度 (Å)
Delta phi final
FOM
反射
9.48-100
22.5
0.643
551
6.71-9.48
22.9
0.819
904
5.48-6.71
24.2
0.835
1158
4.74-5.48
23.4
0.856
1339
4.24-4.74
21.9
0.861
1507
3.87-4.24
22.2
0.842
1643
3.58-3.87
21.9
0.849
1801
3.35-3.58
22.2
0.842
1907
3.16-3.35
24.3
0.831
2030
3-3.16
26
0.821
2138
2.86-3
26.7
0.814
2251
2.74-2.86
27.4
0.823
2321
2.63-2.74
28.4
0.817
2458
2.53-2.63
27.7
0.83
2521
2.45-2.53
29.5
0.824
2624
2.37-2.45
27.9
0.822
2680
2.3-2.37
27.3
0.828
2794
2.24-2.3
27.1
0.827
2872
2.18-2.24
28.6
0.823
2942
2.12-2.18
27
0.828
3031
2.07-2.12
27.5
0.816
3096
2.02-2.07
28.1
0.819
3171
1.98-2.02
28.5
0.81
3223
1.94-1.98
29.4
0.797
3313
1.9-1.94
29.7
0.795
3380
1.86-1.9
30.3
0.777
3427
1.83-1.86
33.9
0.758
3506
1.79-1.83
34.6
0.738
3592
1.75-1.79
40.3
0.711
4541
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
SHELX
位相決定
直接法
6.1
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.1
データ抽出
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELXD
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.6→39.54 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.974 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.961 / WRfactor Rfree: 0.1808 / WRfactor Rwork: 0.1466 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.3 / FOM work R set: 0.8859 / SU B: 3.555 / SU ML: 0.054 / SU R Cruickshank DPI: 0.0814 / SU Rfree: 0.0837 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 1.3 / ESU R Free: 0.084 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1911
4524
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1578
-
-
-
obs
0.1595
84968
94.43 %
-
all
-
94877
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK