プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.26→23 Å / Num. obs: 55295 / % possible obs: 83 % / 冗長度: 2.9 % / Rsym value: 0.057 / Net I/σ(I): 13.6
反射 シェル
解像度: 2.26→2.34 Å / 冗長度: 1.9 % / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / Rsym value: 0.303 / % possible all: 44.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
MAR345dtb
データ収集
REFMAC
5.5.0102
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 2.3→23 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.919 / SU B: 16.611 / SU ML: 0.18 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.63 / ESU R Free: 0.279 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24209
2711
5 %
RANDOM
Rwork
0.19361
-
-
-
obs
0.19606
51590
85.64 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK