プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→46.3 Å / Num. obs: 79715 / % possible obs: 94.9 % / 冗長度: 6.2 % / Rsym value: 0.057 / Net I/σ(I): 22.6
反射 シェル
解像度: 1.8→1.86 Å / 冗長度: 1.8 % / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / Rsym value: 0.323 / % possible all: 63.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
CrystalClear
データ収集
REFMAC
5.5.0102
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 1.8→46.3 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.949 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.943 / SU B: 4.234 / SU ML: 0.069 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.128 / ESU R Free: 0.112 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20588
3976
5 %
RANDOM
Rwork
0.19129
-
-
-
obs
0.19205
75638
94.53 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK