プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→37.15 Å / Num. obs: 60630 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 2.81 % / Rmerge(I) obs: 0.063 / Net I/σ(I): 9.6
反射 シェル
最高解像度: 1.8 Å / 冗長度: 2.7 % / Rmerge(I) obs: 0.29 / Mean I/σ(I) obs: 3.2 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
StructureStudio
データ収集
SHARP
位相決定
REFMAC
5.5.0102
精密化
d*TREK
データ削減
d*TREK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.8→37.15 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.929 / SU B: 2.878 / SU ML: 0.089 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.152 / ESU R Free: 0.137 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.234
3068
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.2
-
-
-
obs
0.201
57549
99.6 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK