プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→40 Å / Num. all: 37173 / Num. obs: 37173 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.028 / Net I/σ(I): 26.7
反射 シェル
解像度: 1.7→1.76 Å / 冗長度: 4.1 % / Rmerge(I) obs: 0.17 / Mean I/σ(I) obs: 6.5 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
StructureStudio
データ収集
SHARP
位相決定
REFMAC
5.5.0102
精密化
d*TREK
データ削減
d*TREK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.7→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.949 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.928 / SU B: 2.318 / SU ML: 0.077 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.122 / ESU R Free: 0.117 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23798
1855
5 %
RANDOM
Rwork
0.2029
-
-
-
obs
0.20463
35315
99.78 %
-
all
-
37173
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK