タイプ: MAR CCD 130 mm / 検出器: CCD 詳細: Bent single Si (111) crystal monochromator (horizontal focusing and deflection) with vertical focusing mirror
放射
モノクロメーター: Bent single Si (111) crystal monochromator (horizontal focusing and deflection) with vertical focusing mirror プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9797 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.53→25 Å / Num. obs: 41095 / % possible obs: 98.3 % / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.077 / Net I/σ(I): 18.27
反射 シェル
解像度: 1.53→1.57 Å / 冗長度: 4.2 % / Rmerge(I) obs: 0.41 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / Num. unique all: 4080 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
REFMAC
5.2.0019
精密化
PDB_EXTRACT
3.006
データ抽出
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
解像度: 1.53→25 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.953 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.936 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0 / SU B: 3.127 / SU ML: 0.062 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.099 / ESU R Free: 0.103 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.258
2054
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.213
-
-
-
obs
0.215
40638
97.96 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK