ACCORDING TO THE AUTHORS THE SEQUENCE WAS VERIFIED BY SEQUENCING AND DIFFERS FROM THE UNP SEQUENCE ...ACCORDING TO THE AUTHORS THE SEQUENCE WAS VERIFIED BY SEQUENCING AND DIFFERS FROM THE UNP SEQUENCE P78573. IN THE DEPOSITED SEQUENCE RESIDUE 203 IS ALA.
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実験情報
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実験
実験
手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1
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試料調製
結晶
マシュー密度: 2.16 Å3/Da / 溶媒含有率: 42.94 %
結晶化
温度: 293 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 7.4 詳細: 0.1 M Hepes pH 7.4, 10 % iso-propanol, 18 % PEG 4000, protein solution 15 mg/ml, VAPOR DIFFUSION, SITTING DROP, temperature 293K
解像度: 1.75→1.81 Å / 冗長度: 12 % / Rmerge(I) obs: 0.623 / Mean I/σ(I) obs: 3.9 / % possible all: 99.6
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.75→36.96 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / SU B: 2.168 / SU ML: 0.071 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.116 / ESU R Free: 0.112 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20445
4254
5 %
RANDOM
Rwork
0.16734
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-
obs
0.16921
80816
99.82 %
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溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK