モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→50 Å / Num. all: 73008 / Num. obs: 73008 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 3.8 % / Rmerge(I) obs: 0.099 / Net I/σ(I): 16.913
反射 シェル
解像度: 2.1→2.14 Å / 冗長度: 3.8 % / Rmerge(I) obs: 0.551 / Mean I/σ(I) obs: 2.917 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
ADSC
Quantum
データ収集
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→28.68 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.927 / SU B: 5.04 / SU ML: 0.131 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.179 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23511
3671
5 %
RANDOM
Rwork
0.19404
-
-
-
obs
0.19609
69244
99.69 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK