モノクロメーター: Si (111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→50 Å / Num. obs: 32754 / % possible obs: 98.4 % / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.064 / Net I/σ(I): 19.81
反射 シェル
解像度: 2→2.08 Å / 冗長度: 3.3 % / Rmerge(I) obs: 0.325 / Mean I/σ(I) obs: 3.94 / % possible all: 89.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
MOLREP
位相決定
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→34.96 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.958 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.935 / SU B: 4.382 / SU ML: 0.122 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.213 / ESU R Free: 0.182 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24065
1653
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19046
-
-
-
obs
0.19294
31074
98.24 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK