モノクロメーター: Si 111 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.17→40 Å / Num. obs: 35863 / % possible obs: 100 %
反射 シェル
解像度: 1.17→1.21 Å / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
MOLREP
位相決定
PHENIX
(phenix.refine: 1.6.3_473)
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
REFMAC
5.2.0019
精密化
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.17→33.39 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.963 / SU B: 1.068 / SU ML: 0.023 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.04 / ESU R Free: 0.039 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17377
1883
5 %
RANDOM
Rwork
0.15122
-
-
-
obs
0.15234
35863
99.56 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK