プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→200 Å / Num. obs: 214677 / % possible obs: 93.8 % / 冗長度: 1.9 % / Rmerge(I) obs: 0.071 / Net I/σ(I): 6.7
反射 シェル
解像度: 1.9→1.97 Å / 冗長度: 1.8 % / Rmerge(I) obs: 0.362 / Mean I/σ(I) obs: 1.4 / Num. unique all: 20800 / % possible all: 91.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 1.9→95.78 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / SU B: 3.79 / SU ML: 0.112 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.163 / ESU R Free: 0.155 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24302
10674
5 %
RANDOM
Rwork
0.19523
-
-
-
obs
0.19762
203394
93.77 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK