プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.14→50 Å / Num. obs: 73833 / % possible obs: 99.8 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 6.26 % / Biso Wilson estimate: 17.63 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 13.14
反射 シェル
解像度: 1.14→1.24 Å / 冗長度: 5.81 % / Rmerge(I) obs: 0.49 / Mean I/σ(I) obs: 2.32 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0112
精密化
XDS
データ削減
SADABS
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.14→45.79 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.981 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.969 / SU B: 1.632 / SU ML: 0.033 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.036 / ESU R Free: 0.038 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. HYDROGENS GENERATED IN REFMAC, THOSE WITH ZERO OCCUPANCY REMOVED, U VALUES REFINED INDIVIDUALLY COVALENT NITRILE BINDING TO CYS25 SG HAS ...詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. HYDROGENS GENERATED IN REFMAC, THOSE WITH ZERO OCCUPANCY REMOVED, U VALUES REFINED INDIVIDUALLY COVALENT NITRILE BINDING TO CYS25 SG HAS TARGET BOND LENGTHS C-S 1.75, C-N 1.3 AND PLANAR GEOMETRY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18362
3627
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.14546
-
-
-
obs
0.14744
67306
95.97 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK