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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 2yij | ||||||
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タイトル | Crystal Structure of phospholipase A1 | ||||||
![]() | PHOSPHOLIPASE A1-IIGAMMA | ||||||
![]() | HYDROLASE / PHOSPHOLIPASE | ||||||
機能・相同性 | ![]() diacylglycerol catabolic process / negative regulation of seed germination / monoacylglycerol catabolic process / phospholipase A1 activity / monoacylglycerol lipase activity / 加水分解酵素; エステル加水分解酵素; カルボン酸エステル加水分解酵素 / lipid storage / cytoplasm 類似検索 - 分子機能 | ||||||
生物種 | ![]() ![]() | ||||||
手法 | ![]() ![]() ![]() | ||||||
![]() | Lee, I. | ||||||
![]() | ![]() タイトル: Crystal Structure of Phospholipase A1 著者: Lee, I. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 164.5 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 138.2 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
文書・要旨 | ![]() | 434.6 KB | 表示 | ![]() |
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文書・詳細版 | ![]() | 449.3 KB | 表示 | |
XML形式データ | ![]() | 33.7 KB | 表示 | |
CIF形式データ | ![]() | 48.4 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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要素
#1: タンパク質 | 分子量: 48229.980 Da / 分子数: 2 / 由来タイプ: 組換発現 由来: (組換発現) ![]() ![]() 発現宿主: ![]() ![]() 参照: UniProt: O49523, 加水分解酵素; エステル加水分解酵素; カルボン酸エステル加水分解酵素 #2: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.77 Å3/Da / 溶媒含有率: 55.57 % / 解説: NONE |
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 93 K | ||||||||||||
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放射光源 | 由来: ![]() ![]() | ||||||||||||
検出器 | タイプ: ADSC CCD / 検出器: CCD | ||||||||||||
放射 | プロトコル: MAD / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray | ||||||||||||
放射波長 |
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反射 | 解像度: 1.7→30 Å / Num. obs: 114783 / % possible obs: 95.6 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 4.4 % / Rmerge(I) obs: 0.11 / Net I/σ(I): 25.39 | ||||||||||||
反射 シェル | 解像度: 1.7→1.73 Å / 冗長度: 8.2 % / Rmerge(I) obs: 0.27 / Mean I/σ(I) obs: 3.45 / % possible all: 91.8 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: ![]() 開始モデル: NONE 解像度: 2→19.92 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.912 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.887 / SU B: 0.003 / SU ML: 0 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 3.999 / ESU R Free: 4.568 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK | ||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 21.831 Å2
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 2→19.92 Å
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LS精密化 シェル | 解像度: 2→2.051 Å / Total num. of bins used: 20
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