モノクロメーター: SI (1 1 1) / プロトコル: MAD / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.5→50 Å / Num. obs: 71563 / % possible obs: 96 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 11.8
反射 シェル
解像度: 2.5→2.6 Å / 冗長度: 2.4 % / Rmerge(I) obs: 0.47 / Mean I/σ(I) obs: 2.2 / % possible all: 86.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELXD
位相決定
SHARP
位相決定
REFMAC
5.6.0093
精密化
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.5→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.96 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.929 / SU B: 22.564 / SU ML: 0.234 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.413 / ESU R Free: 0.288 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.263
3609
5 %
RANDOM
Rwork
0.199
-
-
-
obs
0.202
67936
96.1 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK