タイプ: ADSC CCD / 検出器: CCD / 日付: 2010年4月14日 詳細: KIRKPATRICK BAEZ BIMORPH MIRROR PAIR FOR HORIZONTAL AND VERTICAL FOCUSSING
放射
モノクロメーター: DOUBLE CRYSTAL / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9763 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.35→27.41 Å / Num. obs: 26034 / % possible obs: 96 % / Observed criterion σ(I): 6 / 冗長度: 5.4 % / Biso Wilson estimate: 16.33 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 15
反射 シェル
解像度: 1.35→1.42 Å / 冗長度: 5.1 % / Rmerge(I) obs: 0.65 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 / % possible all: 87.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0102
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.35→27.41 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.963 / SU B: 1.679 / SU ML: 0.031 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.055 / ESU R Free: 0.053 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19267
1313
5 %
RANDOM
Rwork
0.16131
-
-
-
obs
0.16292
24721
96.05 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK