モノクロメーター: SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.2→60.2 Å / Num. obs: 8285 / % possible obs: 99.4 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.6 % / Biso Wilson estimate: 41.9 Å2 / Rsym value: 0.05 / Net I/σ(I): 18.4
反射 シェル
解像度: 2.2→2.26 Å / 冗長度: 3.6 % / Mean I/σ(I) obs: 2.94 / Rsym value: 0.5 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELX
C/D
位相決定
autoSHARP
位相決定
PHENIX
精密化
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.2→31.288 Å / SU ML: 0.29 / 位相誤差: 20.89 / 立体化学のターゲット値: ML 詳細: THE RESIDUES ARISEING FROM THE CLONING SITE AS WELL AS RESIDUES 506 - 513 AND RESIDUES 641 - 646 ARE DISORDERED
Rfactor
反射数
%反射
Rfree
0.2229
405
4.9 %
Rwork
0.1929
-
-
obs
0.1943
8274
99.28 %
溶媒の処理
減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL / Bsol: 41.801 Å2 / ksol: 0.369 e/Å3