プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9763 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.98→50 Å / Num. obs: 79396 / % possible obs: 93.6 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 2.5 % / Biso Wilson estimate: 24.1 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 12.1
反射 シェル
解像度: 1.98→2.05 Å / 冗長度: 2.5 % / Rmerge(I) obs: 0.3 / Mean I/σ(I) obs: 3.1 / % possible all: 87.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0072
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.98→31.78 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.955 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.948 / SU B: 3.038 / SU ML: 0.085 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.133 / ESU R Free: 0.12 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20943
3703
5 %
RANDOM
Rwork
0.19231
-
-
-
obs
0.19318
70554
93.56 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK