モノクロメーター: SI(111)MONOCHROMATOR / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
1.0688
1
2
0.9792
1
反射
解像度: 2.3→80 Å / Num. obs: 11317 / % possible obs: 98.9 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.5 % / Biso Wilson estimate: 44.1 Å2 / Rsym value: 0.08 / Net I/σ(I): 11.9
反射 シェル
解像度: 2.31→2.37 Å / 冗長度: 3.5 % / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / Rsym value: 0.56 / % possible all: 95.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0072
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.31→56.08 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.933 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.882 / SU B: 5.699 / SU ML: 0.14 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.206 / ESU R Free: 0.191 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY. RESIDUES A575-A582, B532-B534, B577-B582, C532-C535 ARE DISORDERED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25232
608
5.4 %
RANDOM
Rwork
0.20793
-
-
-
obs
0.21007
10707
98.92 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK