タイプ: RIGAKU / 日付: 2008年6月6日 / 詳細: OSMIC BLUE MIRRORS
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.5→30.7 Å / Num. obs: 30054 / % possible obs: 99.3 % / Observed criterion σ(I): 3 / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.04 / Net I/σ(I): 19.9
反射 シェル
解像度: 1.55→1.59 Å / 冗長度: 4.6 % / Rmerge(I) obs: 0.48 / Mean I/σ(I) obs: 52.6 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.4.0077
精密化
iMOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.55→23.42 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.943 / SU B: 4.716 / SU ML: 0.075 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.097 / ESU R Free: 0.101 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ATOM RECORD CONTAINS RESIDUAL B FACTORS ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24589
1519
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20172
-
-
-
obs
0.20395
28535
99.63 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK