プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97897 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.9→55.6 Å / Num. obs: 20948 / % possible obs: 98 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4.1 % / Rmerge(I) obs: 0.07 / Net I/σ(I): 15.9
反射 シェル
解像度: 1.9→2 Å / 冗長度: 3.2 % / Rmerge(I) obs: 0.44 / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / % possible all: 88.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.9→55.64 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.936 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.898 / SU B: 7.755 / SU ML: 0.121 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.182 / ESU R Free: 0.164 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.254
1048
5 %
RANDOM
Rwork
0.211
-
-
-
obs
0.213
19899
100 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK