プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.65→20.76 Å / Num. obs: 9314 / % possible obs: 99.9 % / Observed criterion σ(I): -3.7 / 冗長度: 6.62 % / Biso Wilson estimate: 25.9 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 23.81
反射 シェル
解像度: 1.65→1.69 Å / 冗長度: 6.47 % / Rmerge(I) obs: 0.68 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.65→18.98 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.964 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.945 / SU B: 4.057 / SU ML: 0.064 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.144 / ESU R Free: 0.108 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.235
439
4.7 %
RANDOM
Rwork
0.18
-
-
-
obs
0.183
8844
99.8 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK