モノクロメーター: SI CHANNEL 220 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
0.9724
1
2
1.9
1
反射
解像度: 1.85→50 Å / Num. obs: 19060 / % possible obs: 99.9 % / 冗長度: 13.3 % / Rsym value: 0.051 / Net I/σ(I): 12.96
反射 シェル
解像度: 1.85→1.92 Å / 冗長度: 12.5 % / Rsym value: 0.233 / % possible all: 99.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SGXPRO
モデル構築
REFMAC
5.2.0019
精密化
SERGUI
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SGXPRO
位相決定
精密化
構造決定の手法: Sulfur SAD / 解像度: 1.85→37.5 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.93 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.897 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.15 / ESU R Free: 0.147 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: 1. Initial phases were obtained from sulfur phasing using data collected at wavelength 1.90000 A. Then the structure was refined using 0.9724 A - wavelength data and deposited in PDB. 2. The ...詳細: 1. Initial phases were obtained from sulfur phasing using data collected at wavelength 1.90000 A. Then the structure was refined using 0.9724 A - wavelength data and deposited in PDB. 2. The Bijvoet differences were used for phasing. 3. HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27983
475
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.23661
-
-
-
obs
0.23874
9373
99.89 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK