プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9755 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→68.84 Å / Num. obs: 13565 / % possible obs: 82.5 % / 冗長度: 2 % / Rmerge(I) obs: 0.12 / Net I/σ(I): 3.8
反射 シェル
解像度: 2.3→2.42 Å / 冗長度: 1.9 % / Rmerge(I) obs: 0.252 / Mean I/σ(I) obs: 2.7 / % possible all: 85.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.3→68.84 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.936 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.895 / SU B: 9.211 / SU ML: 0.224 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.677 / ESU R Free: 0.313 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27005
749
5.4 %
RANDOM
Rwork
0.21373
-
-
-
obs
0.21693
13154
82.78 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK