モノクロメーター: Mirrors / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.43→50 Å / Num. obs: 28149 / % possible obs: 93.3 % / Biso Wilson estimate: 32.137 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.056 / Net I/σ(I): 33.7
反射 シェル
解像度: 1.432→1.468 Å / Rmerge(I) obs: 0.238 / Mean I/σ(I) obs: 13.95
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.43→26.46 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.956 / SU B: 1.724 / SU ML: 0.039 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.064 / ESU R Free: 0.067 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22593
1393
5 %
RANDOM
Rwork
0.19689
-
-
-
obs
0.19825
26436
99.1 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK