解像度: 1.79→50 Å / Num. obs: 13524 / % possible obs: 97.8 % / 冗長度: 5.5 % / Rsym value: 0.072 / Net I/σ(I): 43.9
反射 シェル
解像度: 1.79→1.85 Å / 冗長度: 6 % / Mean I/σ(I) obs: 10.8 / Rsym value: 0.255 / % possible all: 96.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SHELXS
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.79→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.944 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / SU B: 3.604 / SU ML: 0.114 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.158 / ESU R Free: 0.148 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26171
652
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.22035
-
-
-
obs
0.22246
12526
97.74 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK