プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9793 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 3→20 Å / Num. obs: 32829 / % possible obs: 97.4 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 11
反射 シェル
解像度: 3→3.16 Å / 冗長度: 3.8 % / Rmerge(I) obs: 0.61 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / % possible all: 98
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: OTHER / 解像度: 3→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.906 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.874 / SU ML: 0.416 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.476 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOODWITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.293
1671
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.257
-
-
-
obs
0.259
31301
98.3 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK