解像度: 2.1→2.16 Å / 冗長度: 4.1 % / Rmerge(I) obs: 0.499 / Mean I/σ(I) obs: 2.25 / Num. unique all: 2285 / % possible all: 73.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0005
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
SHELXD
位相決定
MLPHARE
位相決定
直接法
位相決定
SOLVE
位相決定
RESOLVE
位相決定
HKL-3000
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.1→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.955 / SU B: 5.262 / SU ML: 0.074 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / σ(F): 0 / σ(I): 0 / ESU R: 0.155 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ALL DATA WERE USED IN FINAL ROUND OF REFINEMENT. R-FACTOR-ALL CORRESPONDS TO DEPOSITED FILE. R-WORK AND R-FREE FACTORS ARE TAKEN FROM SECOND ...詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ALL DATA WERE USED IN FINAL ROUND OF REFINEMENT. R-FACTOR-ALL CORRESPONDS TO DEPOSITED FILE. R-WORK AND R-FREE FACTORS ARE TAKEN FROM SECOND TO LAST ROUND OF REFINEMENT WHICH USED TEST DATA SET.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20164
3603
-
RANDOM
Rwork
0.15833
-
-
-
all
0.16001
36285
-
-
obs
0.16001
36285
96.04 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK