プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.74 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.77→50 Å / Num. obs: 12627 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): 0.001
反射 シェル
解像度: 1.77→1.88 Å / % possible all: 91.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
ISAS2001
モデル構築
REFMAC
5.1.24
精密化
HKL-2000
データスケーリング
反復単波長異常分散
V. 2001
位相決定
精密化
構造決定の手法: SAS / 解像度: 1.77→48.8 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.95 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.923 / SU B: 2.187 / SU ML: 0.071 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.121 / ESU R Free: 0.126 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: ORIGINAL ENTRY '1LPL' WAS RE- EXAMINED WITH MOLPROBITY TWO ADDITIONAL RESIDUES AT THE N- TERMINUS FIXED ONE POOR PHI/PSI (Q159), EIGHT POOR ROTAMERS CONVERTED THREE WATERS INTO A SULPHATE ...詳細: ORIGINAL ENTRY '1LPL' WAS RE- EXAMINED WITH MOLPROBITY TWO ADDITIONAL RESIDUES AT THE N- TERMINUS FIXED ONE POOR PHI/PSI (Q159), EIGHT POOR ROTAMERS CONVERTED THREE WATERS INTO A SULPHATE MOVED 8 WATERS > 1A, REMOVED 5 ORIGINAL WATERS, ADDED 7 MORE REFINED WITH REFMAC INSTEAD OF CNS R VALUE IMPROVED FROM 22.0 TO 20.0 FREE R VALUE IMPROVED FROM 29.7 TO 25.5
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2587
627
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21081
-
-
-
obs
0.21319
11598
96.34 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK