ソフトウェア | 名称 | バージョン | 分類 |
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REFMAC | 5.1.24精密化 | DENZO | | データ削減 | CCP4 | (SCALA)データスケーリング | SOLVE | | 位相決定 | | |
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精密化 | 構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.7→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.963 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.951 / SU B: 2.027 / SU ML: 0.067 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 2.4 / ESU R: 0.106 / ESU R Free: 0.104 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
| Rfactor | 反射数 | %反射 | Selection details |
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Rfree | 0.21366 | 2971 | 10 % | RANDOM |
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Rwork | 0.18073 | - | - | - |
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all | 0.184 | 29000 | - | - |
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obs | 0.18404 | 26680 | 95.77 % | - |
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溶媒の処理 | イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK |
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原子変位パラメータ | Biso mean: 24.378 Å2
| Baniso -1 | Baniso -2 | Baniso -3 |
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1- | -0.79 Å2 | -0.56 Å2 | -1.57 Å2 |
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2- | - | 0.38 Å2 | 0.12 Å2 |
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3- | - | - | 0.02 Å2 |
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 1.7→20 Å
| タンパク質 | 核酸 | リガンド | 溶媒 | 全体 |
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原子数 | 1803 | 0 | 12 | 187 | 2002 |
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拘束条件 | Refine-ID | タイプ | Dev ideal | Dev ideal target | 数 |
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X-RAY DIFFRACTION | r_bond_refined_d0.016 | 0.022 | 1842 | X-RAY DIFFRACTION | r_angle_refined_deg1.427 | 1.976 | 2491 | X-RAY DIFFRACTION | r_dihedral_angle_1_deg4.775 | 5 | 234 | X-RAY DIFFRACTION | r_chiral_restr0.084 | 0.2 | 280 | X-RAY DIFFRACTION | r_gen_planes_refined0.006 | 0.02 | 1392 | X-RAY DIFFRACTION | r_nbd_refined0.219 | 0.2 | 935 | X-RAY DIFFRACTION | r_xyhbond_nbd_refined0.159 | 0.2 | 113 | X-RAY DIFFRACTION | r_symmetry_vdw_refined0.188 | 0.2 | 40 | X-RAY DIFFRACTION | r_symmetry_hbond_refined0.213 | 0.2 | 9 | X-RAY DIFFRACTION | r_mcbond_it0.721 | 1.5 | 1175 | X-RAY DIFFRACTION | r_mcangle_it1.277 | 2 | 1890 | X-RAY DIFFRACTION | r_scbond_it2.337 | 3 | 667 | X-RAY DIFFRACTION | r_scangle_it3.549 | 4.5 | 601 | | | | | | | | | | | | | |
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LS精密化 シェル | 解像度: 1.7→1.744 Å / Total num. of bins used: 20 / | Rfactor | 反射数 |
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Rfree | 0.255 | 215 |
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Rwork | 0.223 | 1957 |
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精密化 TLS | 手法: refined / Refine-ID: X-RAY DIFFRACTION ID | L11 (°2) | L12 (°2) | L13 (°2) | L22 (°2) | L23 (°2) | L33 (°2) | S11 (Å °) | S12 (Å °) | S13 (Å °) | S21 (Å °) | S22 (Å °) | S23 (Å °) | S31 (Å °) | S32 (Å °) | S33 (Å °) | T11 (Å2) | T12 (Å2) | T13 (Å2) | T22 (Å2) | T23 (Å2) | T33 (Å2) | Origin x (Å) | Origin y (Å) | Origin z (Å) |
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1 | 1.9265 | 0.1185 | 0.2724 | 1.7265 | -0.289 | 1.6125 | 0.0537 | -0.0689 | -0.0853 | 0.1156 | -0.0644 | -0.1053 | 0.0541 | -0.0275 | 0.0107 | 0.052 | -0.0099 | 0.0114 | 0.0495 | -0.0136 | 0.0314 | -14.378 | 10.844 | -10.409 | 2 | 1.6376 | 0.3887 | 0.5175 | 2.2792 | -0.0109 | 1.7519 | -0.042 | 0.1005 | 0.0573 | -0.0613 | 0.0483 | 0.0388 | 0.0399 | 0.035 | -0.0063 | 0.0174 | 0.0133 | 0.023 | 0.054 | 0.0015 | 0.0363 | 4.69 | -10.668 | 8.694 |
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精密化 TLSグループ | ID | Refine-ID | Refine TLS-ID | Auth asym-ID | Label asym-ID | Auth seq-ID | Label seq-ID |
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1 | X-RAY DIFFRACTION | 1 | AA1 - 118 | 1 - 118 | 2 | X-RAY DIFFRACTION | 2 | BB1 - 118 | 1 - 118 | | | | |
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精密化 | *PLUS 最高解像度: 1.7 Å / 最低解像度: 20 Å / Rfactor Rfree: 0.181 / Rfactor Rwork: 0.214 |
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溶媒の処理 | *PLUS |
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原子変位パラメータ | *PLUS |
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拘束条件 | *PLUS Refine-ID | タイプ | Dev ideal |
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X-RAY DIFFRACTION | r_bond_d0.016 | X-RAY DIFFRACTION | r_angle_d | X-RAY DIFFRACTION | r_angle_deg1.43 | | | |
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LS精密化 シェル | *PLUS 最高解像度: 1.7 Å / 最低解像度: 1.74 Å |
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