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-基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 1ca5 | ||||||
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タイトル | INTERCALATION SITE OF HYPERTHERMOPHILE CHROMOSOMAL PROTEIN SSO7D/SAC7D BOUND TO DNA | ||||||
要素 |
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キーワード | STRUCTURAL PROTEIN/DNA / HYPERTHERMOPHILE / CHROMOSOMAL PROTEIN / SSO7D / SAC7D / DNA BINDING / STRUCTURAL PROTEIN-DNA COMPLEX | ||||||
機能・相同性 | 機能・相同性情報 | ||||||
生物種 | Sulfolobus acidocaldarius (好気性・好酸性) synthetic construct (人工物) | ||||||
手法 | X線回折 / 分子置換 / 解像度: 2.2 Å | ||||||
データ登録者 | Su, S. / Gao, Y.-G. / Robinson, H. / Shriver, J.W. / Wang, A.H.-J. | ||||||
引用 | ジャーナル: J.Mol.Biol. / 年: 2000 タイトル: Crystal structures of the chromosomal proteins Sso7d/Sac7d bound to DNA containing T-G mismatched base-pairs 著者: Su, S. / Gao, Y.-G. / Robinson, H. / Liaw, Y.C. / Edmondson, S.P. / Shriver, J.W. / Wang, A.H.-J. #1: ジャーナル: Nature / 年: 1998 タイトル: The hyperthermophile chromosomal protein Sac7d sharply kinks DNA. 著者: Robinson, H. / Gao, Y.G. / McCrary, B.S. / Edmondson, S.P. / Shriver, J.W. / Wang, A.H. #2: ジャーナル: Nat.Struct.Biol. / 年: 1998 タイトル: The crystal structure of the hyperthermophile chromosomal protein Sso7d bound to DNA. 著者: Gao, Y.G. / Su, S.Y. / Robinson, H. / Padmanabhan, S. / Lim, L. / McCrary, B.S. / Edmondson, S.P. / Shriver, J.W. / Wang, A.H. | ||||||
履歴 |
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-構造の表示
構造ビューア | 分子: MolmilJmol/JSmol |
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-ダウンロードとリンク
-ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | 1ca5.cif.gz | 44 KB | 表示 | PDBx/mmCIF形式 |
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PDB形式 | pdb1ca5.ent.gz | 28 KB | 表示 | PDB形式 |
PDBx/mmJSON形式 | 1ca5.json.gz | ツリー表示 | PDBx/mmJSON形式 | |
その他 | その他のダウンロード |
-検証レポート
文書・要旨 | 1ca5_validation.pdf.gz | 374.1 KB | 表示 | wwPDB検証レポート |
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文書・詳細版 | 1ca5_full_validation.pdf.gz | 379.2 KB | 表示 | |
XML形式データ | 1ca5_validation.xml.gz | 3.6 KB | 表示 | |
CIF形式データ | 1ca5_validation.cif.gz | 5.6 KB | 表示 | |
アーカイブディレクトリ | https://data.pdbj.org/pub/pdb/validation_reports/ca/1ca5 ftp://data.pdbj.org/pub/pdb/validation_reports/ca/1ca5 | HTTPS FTP |
-関連構造データ
-リンク
-集合体
登録構造単位 |
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1 |
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単位格子 |
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-要素
#1: DNA鎖 | 分子量: 2426.617 Da / 分子数: 2 / 由来タイプ: 合成 / 由来: (合成) synthetic construct (人工物) #2: タンパク質 | | 分子量: 7626.914 Da / 分子数: 1 / 由来タイプ: 天然 由来: (天然) Sulfolobus acidocaldarius (好気性・好酸性) 参照: UniProt: P13123 #3: 水 | ChemComp-HOH / | |
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-実験情報
-実験
実験 | 手法: X線回折 / 使用した結晶の数: 1 |
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-試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.7 Å3/Da / 溶媒含有率: 53 % | ||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 6.5 / 詳細: pH 6.5, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP | ||||||||||||||||||||||||||||||
結晶化 | *PLUS 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 | ||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 293 K |
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放射光源 | 由来: 回転陽極 / タイプ: RIGAKU RU200 / 波長: 1.5418 |
検出器 | タイプ: RIGAKU / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 1996年8月15日 / 詳細: COLLIMATORS |
放射 | モノクロメーター: GRAPHITE / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 1.5418 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 1.93→40 Å / Num. obs: 6720 / % possible obs: 62.7 % / Observed criterion σ(I): 1 / 冗長度: 2 % / Biso Wilson estimate: 25.6 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.63 |
反射 シェル | 解像度: 1.93→2.01 Å / % possible all: 30 |
反射 | *PLUS 最高解像度: 2.2 Å / 最低解像度: 8 Å / Num. obs: 5268 / % possible obs: 73.8 % |
反射 シェル | *PLUS 最高解像度: 2.2 Å / 最低解像度: 2.3 Å / % possible obs: 60.9 % |
-解析
ソフトウェア |
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精密化 | 構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: PDB ENTRY 1AZP 解像度: 2.2→8 Å / Rfactor Rfree error: 0.016 / Data cutoff high absF: 10000000 / Data cutoff low absF: 0.001 / Isotropic thermal model: RESTRAINED / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 2
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原子変位パラメータ | Biso mean: 44.4 Å2 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Refine analyze |
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 2.2→8 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 2.2→2.33 Å / Rfactor Rfree error: 0.06 / Total num. of bins used: 6
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Xplor file |
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ソフトウェア | *PLUS 名称: X-PLOR / バージョン: 3.851 / 分類: refinement | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化 | *PLUS 最高解像度: 2.2 Å / 最低解像度: 8 Å / σ(F): 2 / % reflection Rfree: 5.5 % / Rfactor obs: 0.19 / Rfactor Rwork: 0.19 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS Biso mean: 44.4 Å2 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS
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LS精密化 シェル | *PLUS Rfactor Rfree: 0.34 / % reflection Rfree: 4.4 % / Rfactor Rwork: 0.33 |