ソフトウェア 名称 分類 X-PLOR精密化 XENGENデータスケーリング
精密化 解像度 : 2.2→8 Å / σ(F) : 2 / Rfactor 反射数 %反射 Rwork 0.155 - - obs 0.155 842 90.8 %
Refine Biso クラス Refine-ID 詳細 Treatment ALL ATOMSX-RAY DIFFRACTION TRisotropicALL WATERSX-RAY DIFFRACTION TRisotropic
精密化ステップ サイクル : LAST / 解像度 : 2.2→8 Åタンパク質 核酸 リガンド 溶媒 全体 原子数 0 486 23 73 582
拘束条件 大きな表を表示 (3 x 19) 大きな表を隠す Refine-ID タイプ Dev ideal X-RAY DIFFRACTION x_bond_d0.022 X-RAY DIFFRACTION x_bond_d_naX-RAY DIFFRACTION x_bond_d_protX-RAY DIFFRACTION x_angle_dX-RAY DIFFRACTION x_angle_d_naX-RAY DIFFRACTION x_angle_d_protX-RAY DIFFRACTION x_angle_deg4 X-RAY DIFFRACTION x_angle_deg_naX-RAY DIFFRACTION x_angle_deg_protX-RAY DIFFRACTION x_dihedral_angle_dX-RAY DIFFRACTION x_dihedral_angle_d_naX-RAY DIFFRACTION x_dihedral_angle_d_protX-RAY DIFFRACTION x_improper_angle_dX-RAY DIFFRACTION x_improper_angle_d_naX-RAY DIFFRACTION x_improper_angle_d_protX-RAY DIFFRACTION x_mcbond_itX-RAY DIFFRACTION x_mcangle_itX-RAY DIFFRACTION x_scbond_itX-RAY DIFFRACTION x_scangle_it
ソフトウェア *PLUS
名称 : X-PLOR / 分類 : refinement精密化 *PLUS
最高解像度 : 2.2 Å / 最低解像度 : 8 Å / σ(F) : 2 / Rfactor obs : 0.155 / Rfactor Rwork : 0.155 溶媒の処理 *PLUS
原子変位パラメータ *PLUS
拘束条件 *PLUS
タイプ : x_angle_d / Dev ideal : 4