温度: 300.15 K / 手法: 蒸気拡散法, シッティングドロップ法 / pH: 7.5 詳細: 20-30% (w/v) polyacrylic acid 5100, 1-5% PEG 400, and 50 mM Hepes (pH 7.5)
-
データ収集
回折
平均測定温度: 100 K
放射光源
由来: シンクロトロン / サイト: ALS / ビームライン: 5.0.1 / 波長: 0.987 Å
検出器
タイプ: ADSC QUANTUM 315r / 検出器: CCD / 日付: 2012年4月6日
放射
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.987 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.8→90 Å / Num. obs: 11166 / % possible obs: 99 % / 冗長度: 4 % / Net I/σ(I): 14
反射 シェル
解像度: 2.8→2.87 Å
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解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
AutoProcess
dataprocessing
iMOSFLM
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2.8→56.7 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.889 / SU B: 13.905 / SU ML: 0.273 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.554 / ESU R Free: 0.353 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28002
569
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.20371
-
-
-
obs
0.2073
11166
99.91 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK